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ST.CERA 맞춤형 반도체 장비 세라믹 척
반도체 분야의 핵심 공정은 클린룸에서 수행되어야 하며, 특히 고온, 진공 및 부식성 가스 환경에서 사용되는 소자의 경우 더욱 그러합니다. 세라믹은 이러한 복잡한 물리적, 화학적 환경에서도 높은 안정성을 유지할 수 있습니다.
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ST.CERA 맞춤형 반도체 장비 세라믹 플레이트
반도체 분야의 핵심 공정은 클린룸에서 수행되어야 하며, 특히 고온, 진공 및 부식성 가스 환경에서 사용되는 소자의 경우 더욱 그러합니다. 세라믹은 이러한 복잡한 물리적, 화학적 환경에서도 높은 안정성을 유지할 수 있습니다.
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ST.CERA 맞춤형 반도체 세라믹 포커스 링
반도체 분야의 핵심 공정은 클린룸에서 수행되어야 하며, 특히 고온, 진공 및 부식성 가스 환경에서 사용되는 소자의 경우 더욱 그러합니다. 세라믹은 이러한 복잡한 물리적, 화학적 환경에서도 높은 안정성을 유지할 수 있습니다.
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ST.CERA 맞춤형 99.5% 알루미나 세라믹 로더 암
세라믹 엔드 이펙터/핸들링 암은 웨이퍼 핸들링 로봇 또는 "엔드 이펙터"에 설치되어 실리콘 웨이퍼를 카세트 또는 공정 챔버 안팎으로 운반하는 데 사용됩니다.
세라믹을 사용하면 높은 굽힘 강도로 인한 처짐 감소, 고온 저항성, 금속 오염 및 입자 제거 등의 이점이 있습니다. -
ST.CERA 맞춤형 알루미나 세라믹 엔드 이펙터
ST.CERA는 고순도 알루미나 분말을 냉간 등방압 성형, 고온 소결 및 정밀 가공하여 제작한 ESD 코팅 및 ESD 세라믹 소재 엔드 이펙터를 제공합니다. 이 제품은 ±0.001mm의 치수 공차, Ra 0.1의 표면 조도, 1600℃의 내열성을 갖습니다.
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ST.CERA 맞춤형 반도체 세라믹 포커스 링
99.5% 이상의 고순도 알루미나 세라믹으로 제작되며, 냉간 등방압 성형 및 고온 소결 후 정밀 가공 및 연마 과정을 거쳐 내마모성, 내식성, 낮은 열팽창률 및 절연성 등의 특징으로 반도체 장비의 엄격한 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
세라믹은 고온, 부식, 마모 및 절연성이 뛰어나 고온, 진공 또는 부식성 가스 환경 등 다양한 조건에서 장시간 사용할 수 있는 반도체 생산 설비에 적합합니다.
고순도 알루미나 분말을 냉간 등방압 성형, 고온 소결 및 정밀 가공하여 제조되었으며, 치수 공차 ±0.001mm, 표면 조도 Ra 0.1, 내열 온도 1600℃를 달성할 수 있습니다.
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ST.CERA 맞춤형 반도체 정밀 알루미나 세라믹 부싱
99.5% 이상의 고순도 알루미나 세라믹으로 제작되며, 냉간 등방압 성형 및 고온 소결 후 정밀 가공 및 연마 과정을 거쳐 내마모성, 내식성, 낮은 열팽창률 및 절연성 등의 특징으로 반도체 장비의 엄격한 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
세라믹은 고온, 부식, 마모 및 절연성이 뛰어나 고온, 진공 또는 부식성 가스 환경 등 다양한 조건에서 장시간 사용할 수 있는 반도체 생산 설비에 적합합니다.
고순도 알루미나 분말을 냉간 등방압 성형, 고온 소결 및 정밀 가공하여 제조되었으며, 치수 공차 ±0.001mm, 표면 조도 Ra 0.1, 내열 온도 1600℃를 달성할 수 있습니다.
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ST.CERA 맞춤형 알루미나 세라믹 진공 엔드 이펙터
이는 진공 상태에서 사용되는 트레이형 세라믹 엔드 이펙터/핸들링 암입니다.
세라믹 엔드 이펙터/핸들링 암은 금속 제품에 비해 "내열성이 뛰어나고", "휘어짐이 적으며", "가볍습니다".
세라믹은 고온, 부식, 마모 및 절연성이 뛰어나 고온, 진공 또는 부식성 가스 환경 등 다양한 조건에서 장시간 사용할 수 있는 반도체 생산 설비에 적합합니다.
고순도 알루미나 분말을 냉간 등방압 성형, 고온 소결 및 정밀 가공하여 제조되었으며, 치수 공차 ±0.001mm, 표면 조도 Ra 0.1, 내열 온도 1600℃를 달성할 수 있습니다.
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ST.CERA 맞춤형 99.5% 알루미나 세라믹 튜브 및 세라믹 로드
세라믹은 고온, 부식, 마모 및 절연성이 뛰어나 고온, 진공 또는 부식성 가스 환경 등 다양한 조건에서 장시간 사용할 수 있는 반도체 생산 설비에 적합합니다.
고순도 알루미나 분말을 냉간 등방압 성형, 고온 소결 및 정밀 가공하여 제조되었으며, 치수 공차 ±0.001mm, 표면 조도 Ra 0.1, 내열 온도 1600℃를 달성할 수 있습니다.
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ST.CERA 맞춤형 알루미나 세라믹 엔드 이펙터 웨이퍼 핸들링
ST.CERA는 ESD 코팅 및 ESD 세라믹 소재로 제작된 내장형 중공 채널 엔드 이펙터/핸들링 암을 제공합니다. 당사는 접착제를 사용하지 않고 단일 소재 내부에 진공 공기 채널을 형성하는 기술을 전문으로 합니다.
오염 물질, 가스 방출 또는 미립자 발생 위험이 없습니다. ST.CERA의 특수 코팅 기술이 적용된 진공 엔드 이펙터/핸들링 암은 전기 절연 기능을 갖추고 있습니다. 또한 코팅 없이 전기 절연 기능을 제공하는 ESD 세라믹 소재도 제공 가능합니다.
고순도 알루미나 분말을 냉간 등방압 성형, 고온 소결 및 정밀 가공하여 제조되었으며, 치수 공차 ±0.001mm, 표면 조도 Ra 0.1, 내열 온도 1600℃를 달성할 수 있습니다. -
알루미나 세라믹 엔드 이펙터 반도체 장비 부품
웨이퍼가 이송되거나 엔드 이펙터/핸들링 암과 접촉하는 동안 경사면이나 각진 모서리 및 뒷면에서 발생할 수 있는 입자를 방지합니다.
가이드에는 웨이퍼를 손상시키지 않는 부드러운 소재를 사용했습니다.
ST.CERA의 내장형 진공 채널 기술은 접착제를 사용하지 않고도 희석이 가능합니다.
로봇에 엔드 이펙터/핸들링 암이 장착되는 베이스 부분에 장착 구멍을 뚫거나 길이 및 너비를 변경할 수 있습니다.
장착 센서, 나사 및 브래킷은 옵션으로 제공됩니다.
대기 중에서 사용하도록 설계되었습니다.
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세인트세라 세라믹 엔드 이펙터의 맞춤형 CNC 가공
ST.CERA는 내부에 진공 채널이 내장된 진공 세라믹 엔드 이펙터/핸들링 암을 제공합니다. 당사는 접착제를 사용하지 않고 단일 소재 내부에 진공 공기 채널을 형성하는 기술을 전문으로 합니다.
오염 물질, 가스 방출 또는 미립자 발생 위험이 없습니다. ST.CERA의 진공 엔드 이펙터/핸들링 암은 내장형 채널이 있어 내구성이 뛰어나며 고온에서도 사용할 수 있습니다. 또한 불필요한 조립을 제거하여 제조 비용을 절감할 수 있습니다.
고순도 알루미나 분말을 냉간 등방압 성형, 고온 소결 및 정밀 가공하여 제조되었으며, 치수 공차 ±0.001mm, 표면 조도 Ra 0.1, 내열 온도 1600℃를 달성할 수 있습니다.
